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ENVURE™ – Bases Fortes de Alta Pureza em Solventes Não aquosos

• Nossas bases orgânicas, fortes em Metanol, contêm baixa contaminação metálica e ausência de água o que faz desses produtos os componentes ideais para formulações em fotolitografia, limpeza, planarização, gravado, assim como em reações sintéticas catalisadas por bases.
  
  Além disso, este tipo de hidróxido quaternário possui os seguintes benefícios:
  
  • · Baixa corrosão.
  • · Alta solubilidade de resíduos orgânicos.
  • · Baixa concentração metálica.
  • · Baixa viscosidade.
  Esta expansão da linha de produtos Envure^TM inclui também bases fortes em solução de propilenglicol. O mesmo foi cuidadosamente selecionado como um solvente orgânico de baixa pressão de vapor, o que minimiza as emissões e variações de concentração devida de evaporação. Os baixos níveis de contaminação fazem destes produtos a escolha ideal para aplicações extremamente demandantes que requerem alta pureza e precisão de fabricação.

Produtos Disponíveis:

Hidróxido de Benziltrimetilamônio
Solução a 25% em Metanol (BTMAH, 25% em MeOH) CAS# 100-85-6/67-56-1

Hidróxido de Tetrabutilamônio
Solução a 25% em Metanol (TBAH, 25% em MeOH) CAS# 2052-49-5/67-56-1

Hidróxido de Tetraetilamônio
Solução a 24% em Metanol (TMAH, 24.9% em MeOH) CAS# 75-59-2/67-56-1